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      agc濺射靶材的特點及運用示例分析

      發(fā)布時間:2023-12-11 點擊量:1400

      agc濺射靶材的特點及運用示例分析

      1. 光學(xué)薄膜用靶材

      目的

      1. 汽車和住宅用表面處理玻璃的低輻射涂層

      2. 顯示膜和玻璃減反射涂層

      3. 觸摸屏等光學(xué)調(diào)整膜(折射率匹配膜)

      4. 信息電子玻璃用光學(xué)多層膜(CD、DVD等的鏡子)

      材料產(chǎn)品名稱目標(biāo)形狀目標(biāo)薄膜(氧化膜用)
      平板圓柱直流濺射特征耐堿性耐酸性耐刮擦其他的
      硅基SC
      高速成膜(>結(jié)晶Si)、
      高強度、高導(dǎo)熱率
      n=1.46
      無定形 
      熱噴涂硅穩(wěn)定放電n=1.46
      無定形 
      鈮基N.B.O.
      熱噴涂
      高密度、
      高速成膜(>Nb)
      n=
      2.3 無定形
      鈦基TXO
      熱噴涂
      高速成膜(>Ti)n=2.45
      無定形

      此處列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關(guān)于下單時的質(zhì)量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。

      特征

      SC

      • 由于其高強度、高導(dǎo)熱性、均勻的結(jié)構(gòu)靶材,實現(xiàn)了長期穩(wěn)定放電。

      • 與使用結(jié)晶Si成膜的情況相比,成膜速度提高了20%。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得非晶SiO 2膜。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。

      N.B.O.

      • 成膜速度比金屬鈮成膜時快3倍以上。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得非晶Nb 2 O 5膜。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。

      TXO

      • 成膜速度比金屬Ti快7倍以上。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得非晶TiO 2膜。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。

      2. 高耐久性保護膜用靶材/中折射率薄膜用靶材

      目的

      1. 汽車、住宅用表面處理玻璃(有色玻璃、熱反射玻璃等)保護膜

      2. 顯示薄膜(觸摸屏等)的防反射涂層

      3. 適用于條碼閱讀器和復(fù)印機頂部玻璃的防刮保護膜

      4. 適用于所有需要耐堿、耐刮傷的薄膜的保護膜。

      材料產(chǎn)品名稱目標(biāo)形狀目標(biāo)薄膜(氧化膜用)
      平板圓柱直流濺射特征耐堿性耐酸性耐刮擦其他的
      硅基SX
      高密度
      、低飛弧特性
      n=
      1.7 無定形
      英石
      開發(fā)中
      高密度、
      高速成膜(>SX)
      n=1.7~
      2.0非晶態(tài)

      此處列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關(guān)于下單時的質(zhì)量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。

      特征

      SX

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得非晶膜,該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜具有優(yōu)異的耐刮擦性和耐化學(xué)性。

      英石

      • 成膜速度比SX更快。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得非晶膜,該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜具有優(yōu)異的耐刮擦性和耐化學(xué)性。

      • 通過氧化反應(yīng)濺射獲得的薄膜具有液滴特性。

      • 所得薄膜的折射率可在 1.7 至 2.0 之間變化,具體取決于目標(biāo)組合物。

      3. Low-E介電薄膜靶材/中折射率薄膜靶材

      目的

      1. 建材用Low-E(低輻射)薄膜用介電薄膜

      2. 防反射膜等光學(xué)膜用中折射率膜

      材質(zhì)系統(tǒng)產(chǎn)品名稱目標(biāo)形狀目標(biāo)膜質(zhì)量
      平板圓柱DC成膜特征
      鋅基深圳合金靶材
      Ar膜沉積
      n=2.0
      無定形
      AZ
      開發(fā)中
      合金靶材
      Ar膜沉積
      n=2.0
      無定形

      此處列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關(guān)于下單時的質(zhì)量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。

      特征

      1. 使用我們的制造方法,圓柱形 SZ 靶材與背襯管實現(xiàn)了高粘合強度。因此,與傳統(tǒng)的熱噴涂靶相比,可以使用高功率濺射進行高速成膜。

      2. 可制造總長3m以上的長圓柱形靶材。

      4、透明導(dǎo)電膜用靶材

      目的

      1. 環(huán)境及能源玻璃(太陽能電池等)用透明電極

      2. 顯示玻璃用透明電極

      3. 汽車和住宅玻璃用透明導(dǎo)電膜(熱反射玻璃、電動汽車表面加熱元件等)

      4. 纖維、薄膜等抗靜電涂膜

      材質(zhì)系統(tǒng)產(chǎn)品名稱目標(biāo)形狀目標(biāo)膜質(zhì)量
      平板圓柱DC成膜特征電導(dǎo)率耐化學(xué)性其他特性
      鋅基廣州市
      高密度燒結(jié)體
      Ar成膜
      ×n=1.9
      低溫結(jié)晶膜
      偶氮
      開發(fā)中
      高密度燒結(jié)體
      Ar成膜
      ×n=1.9
      低溫結(jié)晶膜

      此處列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)僅供參考,并非保證值。關(guān)于下單時的質(zhì)量保證,我們將另行協(xié)商決定。請注意,列出的質(zhì)量數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知。

      特征

      1. 相對密度90%以上的高密度ZnO靶材。

      2. 與ITO相比,不易產(chǎn)生結(jié)節(jié),可實現(xiàn)穩(wěn)定的放電。

      3. 可在純氬氣氣氛下成膜。

      4. 即使在室溫下也可以形成結(jié)晶膜。




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