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      研發(fā)用真空置換爐氣氛爐[Mini-BENCH]系列介紹

      發(fā)布時(shí)間:2023-03-24 點(diǎn)擊量:1538

      研發(fā)用真空置換爐氣氛爐[Mini-BENCH]系列介紹


      超緊湊臺(tái)式超高溫實(shí)驗(yàn)反應(yīng)釜
      [Mini-BENCH]系列,是各種研發(fā)應(yīng)用的理想選擇

      真空置換爐

      最高2000°C

      還原氣氛爐

      最高2000°C




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      我們根據(jù)您的預(yù)算和目的,從最小的配置(加熱器/腔室+控制箱)中為碳爐(真空,惰性氣體)和金屬爐(真空,惰性氣體,還原氣氛)提出最佳系統(tǒng)。
      內(nèi)徑Φ80mm坩堝內(nèi)試,Φ1~4英寸晶圓燒成尺寸緊湊,操作方便 溫度快速升至2000°C!
      可廣泛應(yīng)用于SiC和GaN器件的基礎(chǔ)研究,新材料和新材料的開(kāi)發(fā)以及其他先進(jìn)的基礎(chǔ)研究和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)部門。

      特征

      • 桌面尺寸小,可安裝在實(shí)驗(yàn)室的有限空間內(nèi)。

      • 我們可以根據(jù)要求的燒制條件響應(yīng)定制設(shè)計(jì)。

      • 我們將提出適合您預(yù)算的設(shè)備配置。

      【設(shè)備配置】

      (a) 腔室 + 控制箱 (b) 腔室 + 控制箱+ 真空排氣系統(tǒng)(泵、儀表、閥門、真空管道)

       *訂購(gòu)時(shí)請(qǐng)按照說(shuō)明進(jìn)行操作。

      ?要求的設(shè)備配置(上述A或B)、爐膛加熱范圍尺寸、樣品材料、形狀、燒成溫度條件、爐氣氛(真空燒制、氣體類型)。

      原理圖規(guī)格

       真空和氣體置換爐(碳爐)還原氣氛爐(金屬爐)
      最高工作溫度最高2000°C
      加熱器石墨或C/C復(fù)合加熱器鎢加熱器
      絕緣石墨氈材料鎢屏蔽層,氧化鋁絕緣
      真空室SUS304水冷夾套結(jié)構(gòu),頂部裝載,線性驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)開(kāi)/關(guān)(*Φ3,僅4英寸)
      使用氛圍在真空或惰性氣體(Ar、N2)中在真空中,惰性氣體(Ar,N2),還原氣體(H2等)
      有效加熱范圍Φ1“~ Φ4"(用于晶圓片進(jìn)料燒制的平面加熱器),或 -Φ80 x 深度 最大100 (H) mm (圓柱形加熱器)
      極限真空度1x10-2 帕斯卡(* 用于空爐)
      真空泵旋轉(zhuǎn)泵(可選:干泵、高真空泵)
      熱電偶包括C型熱電偶
      聯(lián)鎖腔室表面溫度、加熱器超溫(可選:冷卻水)
      公用設(shè)施和冷卻水加熱器額定值最大 6KVA(* 取決于加熱范圍尺寸),冷卻水 3 升/分鐘 0.4Mpa


      加熱器

      • 平面加熱絲(用于晶圓):C / C復(fù)合材料(或鎢)

      • 圓柱形加熱絲(用于坩堝):C / C復(fù)合材料(或鎢)

      * 根據(jù)加熱范圍的尺寸,通過(guò)組合平面加熱器和圓柱形加熱器,可以在整個(gè)坩堝中均勻加熱。


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