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      離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用
      
        
      發(fā)布時(shí)間：2022-01-04　點(diǎn)擊量：1633 
      
        
       
           
      離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用
      適用于光學(xué)薄膜和透明涂層薄膜
      模型飛行時(shí)間
      測量方法非接觸式/光譜干涉測量法
      測量對象電子和光學(xué)用透明平滑膜、多層膜
      測量原理光譜干涉儀
      產(chǎn)品特點(diǎn)
      • 實(shí)現(xiàn)高測量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）
      • 不易受溫度變化的影響
      • 可以生產(chǎn)用于研究和檢查的離線式和在制造過程中使用的在線式。
      • 反射型允許從薄膜的一側(cè)進(jìn)行測量
      • 僅可測量透明涂膜層（取決于測量條件）
      產(chǎn)品規(guī)格
      測量厚度1～50μm（薄材料）、10～150μm（厚材料）　　　　
      測量長度50-5000 毫米
      測量間距1 毫米 ~
      最小顯示值0.001微米
      電源電壓AC100 V 50/60 Hz
      工作溫度限制5～45℃（測量時(shí)溫度變化1℃以內(nèi)）
      濕度35-80%（無冷凝）
      測量區(qū)域φ0.6 毫米
      測量間隙約 30 毫米


      
        
      
      
      
      
    
      
  
      

      

      









 
  


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