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      粉碎納米材料用氧化鋯研磨介質(zhì)球-日本niimi氧化鋯微珠

      發(fā)布時(shí)間:2020-08-19 點(diǎn)擊量:1859

      日本niimi氧化鋯微珠

      以獨(dú)chuang技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度加工

      陶瓷產(chǎn)品的制造對(duì)于每個(gè)過(guò)程都需要不同的設(shè)備和技術(shù),以確保高精度。

      用作原料的氧化鋁和氧化鋯在混合和烘烤濕度方面需要專門的知識(shí),但與其他公司的大區(qū)別在于拋光的精度。

      Niimi Sangyo通過(guò)其自己的高精度加工技術(shù)進(jìn)行微米級(jí)的研磨和拋光。

      我們已經(jīng)獲得了氧化鋯微珠的制造專li。

      滾球磨,振動(dòng)球磨,噴射磨
      當(dāng)時(shí)它是工業(yè)上使用的主要研磨設(shè)備,
      認(rèn)為不可能通過(guò)破碎方法生產(chǎn)納米顆粒
      獲得了它。 1)然而,近年來(lái),濕法和干法粉碎后發(fā)生混凝
      收集的顆粒有球磨機(jī),珠磨機(jī)(濕介質(zhì)攪拌機(jī))
      通過(guò)濕法粉碎和分散來(lái)達(dá)到粒徑
      據(jù)說(shuō)可能有幾個(gè)nm。 2)
      使用珠磨機(jī)的納米級(jí)初級(jí)顆粒
      如果目標(biāo)是使孩子小型化,
      必須選擇0.1毫米或更小的微珠。 3)近幾年
      氧化鋯珠尺寸從0.1mm到0.05mm
      小型化已發(fā)展到0.03毫米。
      但是,納米技術(shù)中*的過(guò)程
      盡管它已經(jīng)成為一種超細(xì)粉技術(shù)
      阻礙再生材料高性能的污染
      如何減少影響
      有。
      ▼不僅磨碎破碎室零件的磨損,而且直徑小
      然后,珠子的輪廓具有非常大的表面積
      您必須小心終止。從珠子
      污染和磨損珠子本身
      由于工廠分類不佳而導(dǎo)致流出。
      受噪音,比重,表面狀況和強(qiáng)度的影響。
      1991年,昭和Shell Sekiyu KK生產(chǎn)了細(xì)小的氧化鋯珠
      通過(guò)深沉造粒法成功生產(chǎn)了0.05mmφ。
      需求高達(dá)0.25mmφ
      韓元。 2001年,Nikkato Co.,Ltd.推出了0.05mmφ的磁珠。
      推出了4)在2003年8月,
      作為分散介質(zhì)的珠粒,為30μm
      宣布了Luconia珠(Niimi NZ珠)。
      滾動(dòng)造粒法,C為大型球
      使用IP成型方法。此外,生產(chǎn)微珠
      浸沒(méi)造粒法和熱等離子體法等新方法
      一直。浸沒(méi)造粒法是將微粒懸浮在其中的液體。
      向其中添加不溶于該液體的第二液體(交聯(lián)液體),并通過(guò)適當(dāng)?shù)臄嚢枋诡w粒聚集,
      使用技術(shù)5)進(jìn)行壓實(shí)以獲得致密的團(tuán)聚顆粒(顆粒狀),
      在熱等離子體法中,將原料粉末置于等離子體火焰中。
      通過(guò)表面張力立即熔化和球形化顆粒6)
      就是這樣。我們的氧化鋯珠(以下簡(jiǎn)稱NZ蜜蜂)
      是與這些制造方法不同的精que,真實(shí)的球形。
      *成型后燒制的燒結(jié)珠子

      關(guān)于介質(zhì)攪拌磨作為介質(zhì)的特性,N Z珠和氧化鋯等離子體的熱等離子體方法熔化的珠子(以下稱為熔化的珠子)另外,成型方法也不明與其他公司的燒結(jié)珠(以下稱C珠)相比。
      在下面介紹。
      1。 NZ磁珠和熔融磁珠的比較
      1-1。出現(xiàn)
      NZ磁珠和熔融磁珠的表面和橫截面的SEM照片
      如圖1所示。 NZ珠的表面狀況均勻,
      由于進(jìn)行了初步拋光,因此非常光滑,并且橫截面沒(méi)有缺陷。
      我認(rèn)不出來(lái)熔凝珠具有在燒結(jié)體中發(fā)現(xiàn)的晶界。
      在表面上不可見(jiàn)并且光滑,但是某些孔和凹槽是
      您也可以確認(rèn)這種狀態(tài)。另外,里面有很多空腔。
      它們中的一些存在,并且某些空腔與表面連通。這個(gè)
      缺陷對(duì)后述的壓縮斷裂強(qiáng)度有很大的影響。
      可以想象的。

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